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セイコーインスツル株式会社 |
| 光メモリ用読み取りテスト媒体の作製を行い、Ti膜上に線幅40〜200nmのライン&スペースパターンを形成することができた。パターン形成には電子線描画装置と反応性イオンエッチング装置を用いた。作製した媒体を用いて近接場光による読み取りテストを行った。近接場光の発生には三角開口（サイズ170nm）を用いた。開口サイズの1/3以下の線幅40nmのライン&スペースパターンを読み取ることが出来た。 |
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宇宙航空研究開発機構 |
| コロナグラフとは、太陽系外惑星の直接検出を目指すにあたり、決定的な障害となる主星とのコントラストを劇的に低減するための、極めて高精度の特殊な光学系である。本研究では宇宙望遠鏡に搭載するコロナグラフ光学系の要となるマスクを開発した。得られたマスクを用いた実験によって、開発目標としていた106のコントラストを実証することができた。これらより、本研究は短期間で非常に良い成果を出したと判断できる。 |
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筑波大学大学院 |
| 大出力テラヘルツ波の発生素子として、10マイクロメートルの間隔・幅を持つ電極からなる櫛型電極構造を持つ大口径光伝導アンテナを作製した。1素子は、1cm×1cmのユニット7つからなり、リフトオフ法で作製した。絶縁層にSiO2を用いて作製したが、絶縁層を形成した後、リークの増加が観察された。このリークを減少させるために、新たに絶縁層にポリミドを使用した。その結果、リークの増加を抑えることができた。これによりテラヘルツ波の高出力が可能と考えられる。 |
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株式会社マイクロフェーズ |
| 白金膜付きMgO単結晶基板上にFeナノ粒子膜を成膜し、FIB加工によりFeナノ粒子膜とPt/MgO基板との界面をTEMで調べるための膜断面資料を作成した。その界面の結晶構造をTEM観察し、Feナノ粒子の結晶方位とPt/MgO基板の結晶方位との相関関係を調べた。Feナノ粒子の結晶方位は基板の結晶方位とについて特徴となる依存関係が見当たらなかった。 |
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いわき明星大学 |
| シリコン基板上にエピタキシャル成長した二酸化セリウム(CeO2)層の結晶解析の目的で、透過型電子顕微鏡により試料断面の格子像観察するための試料製作を集束イオンビーム加工を用いて行った。薄片化した部分への応力集中を緩和するために多段構造に加工する方法と、40 keV Gaイオンビームを使った切削加工による照射損傷層を除去するために、浅い入射角で低エネルギGaイオンをフラッシュ照射する手法の採用により良好な試料製作ができた。Si(100)基板上に方位選択エピタキシャル成長させたCeO2 (100)およびCeO2 (110) 膜の断面格子像観察ができた。 |
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独立行政法人 森林総合研究所 |
| 高分解能電解放射型走査電子顕微鏡(FE-SEM)による、竹材細胞壁のセルロースミクロフィブリル配向の観察を試みた。その結果、繊維細胞では、ミクロフィブリルが細胞軸に対して小さい角度で配列する厚い壁層が観察され、柔細胞では、ミクロフィブリルが細胞軸に対して大きい角度で配列している壁層の様子が観察された。また、初旬後半年程度の若竹であっても、成竹とほぼ同様なミクロフィブリルの配向特徴を有することが分かった。 |
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光メモリ用読み取りテスト媒体の作製